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高解析電子微探儀

場發射高解析電子微探儀(EPMA)可以針對金屬材料、電子材料、陶瓷材料、礦物進行微區域之成份定性及定量分析,其測定之精確度比一般EDS高許多,是微區域成份分析很好的工具。亦可進行大區域和高倍率之元素特性X光、二次電子、背向散射電子(BEI)等影像觀察。

儀器設備說明

  • 型號:JEOL JXA-8530F Field Emission Electron Probe Microanalyzer
  • 主要規格:加速電壓 1kV~30 kV,WDS可偵測範圍5B~92U

服務項目

  • 定性、定量分析
  • 二次電子(SEI)、背向散射電子(BEI)影像之觀察
  • 元素X光影像(X-Ray Mapping)、線掃描(Line Scanning)

收費標準

  1.  有計畫者每小時600元,無計畫者每小時1200元
  2.  定量分析: 有計畫者每點20元,無計畫者每點100元
  3.  線掃描(line scan)、區域掃描(mapping)分析、定性分析:有計畫者每次80元,無計畫者每次300元

試片準備

  • 欲做定量分析、線掃瞄、元素X光影像(X-Ray Mapping)分析之試樣,其上下兩面需平整平行,並將分析面拋光
  • 如為不導電試樣,需先蒸鍍一層導電覆膜〔一般為碳〕或經其他特別處理
  • Hot Mount或Cold Mount其尺寸為直徑35 mm或25 mm、高20 mm
  • 其餘試樣直徑小於20mm、高小於13mm。其它尺寸可直接來電詢問

聯絡方式

儀器專家: 郭哲男教授
技術人員: 高靖惟
聯絡方式: (07)5252000 ext.4072 kauwei36@staff.nsysu.edu.tw
地點: 工學院材料大樓 工MS3024室
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