儀器名稱

• 中文名稱：高密度電漿化學氣相沉積系統
• 英文名稱：High Density Plasma Chemical Vapor Deposition

儀器設備說明

• 廠牌及型號：聚昌，Ciede-200

功能及用途

1.  薄膜沉積 (SiO2，Si3N4，Si，Ge，SiGe，SiGeO，SiGeN)
2.  可通入氣體 SiH₄、N₂O、NH₃、CF₄、GeH₄、O₂、N₂
3.  製程溫度最高可至300℃
4.  真空度(base pressure)約為5E-6 torr，沉積時最低操作壓力可達2 mtorr
5.  電漿產生裝置: 射頻(RF)產生器
6.  上電極 輸出功率 ≥ 1,200W(氣冷式)
7.  下電極 輸出功率 ≥ 600W(氣冷式)
8.  全自動真空 Load Lock

設備規格及適用基板

• non-uniformity：< 10%
• 2”、 3”、 4”、 6”基板一片及破片

服務須知

1.  本實驗室所屬高密度電漿化學氣相沉積系統經考核均可開放非假日白天自行操作
2.  自行操作者須至網站上報名<<工安及儀器訓練>>與<<儀器檢定>>，通過後須繳交(a.使用者基本資料 b.實驗室使用者安全承諾切結書及健康告知)表格後，才可申請無塵室識別證及磁卡後，才可進無塵室自行操作儀器
3.  白天自行操作達15小時者，開放晚上與假日自行操作
4.  本系統服務以0.25小時為1單元
5.  委託操作統一開放在每月每周三09:00-17:00，請先跟儀器技術員確認時段，再上網去預約委託時間，若委託時段在非星期三，則費用會以急件(2倍)收費
6.  取消預約須於 1 天前取消，違者使用費照預約時間全額收費
7.  實際使用時數未達預約時數，而兩者間時數項差超過1小時，其餘時間以單價之50%計算
8.  若未預約就使用，將收取1.5倍的費用
9.  考核通過者若連續6個月無自行操作紀錄，則取消其自行操作資格。日後若需自行操作，需另行申請、訓練、考核， 費用以半價收費

收費標準

1.  計畫預約：自行操作：350元/0.25小時，委託操作：650元/0.25小時

儀器訓練費：1700元/堂，儀器認證費：700元/堂

2.  非計畫預約：自行操作：650元/0.25小時，委託操作：750元/0.25小時

儀器訓練費：1700元/堂，儀器認證費：700元/堂

樣品注意事項

• 機台本身基板部分可以加溫使用，嚴禁加溫過程放入含有揮發性物質，例如光阻，有特殊需求可以與儀器技術員討論，真空膠帶請使用可以耐熱至250度的材質，違規者，以重新考核做為處分
• 如有使用GeH4，請確實填寫GeH4使用記錄簿
• 每次使用完之後需確認載盤清乾淨(並不是有執行過Clean chamber即可)，如有特殊需要可以自行參考附錄中的：”Clean chamber”調整清理腔體與載盤的時間
• 不確實填寫紀錄簿者，經儀器技術員發現且儀器有損壞故障情形，第一次停權二週處分，第二次重新考核，因人為因素操作不當導致的儀器損壞則需負責賠償維修費用
• 委託操作者，請先跟儀器技術員連絡確認委託時段再去網路預約委託時段
• 製程中如發生問題請通知相關人員(例如製程氣體壓力不夠通知廠務人員，或儀器之類的問題通知技術員)

聯絡方式